| 摘要 |
本发明揭示一种基板处理装置。该基板处理设备包含:一腔室,其提供其中堆叠一基板的一堆叠空间,以及其中执行与该基板相关的一处理之一处理空间;一晶舟,其包含至少一个垂直站立的晶舟框架,该晶舟可上升移动进入该堆叠空间以及该处理空间;复数个承座,其位于该晶舟框架上并且沿着该晶舟框架的一纵向方向彼此相隔,其中随着该晶舟移动进入该处理空间,会将该基板连续载入该等复数个承座每一者的一顶端表面上;以及至少一固定器,其包含与该晶舟框架平行放置的一垂直杆,以及从该垂直杆内侧表面突出支撑该基板的一基板支撑尖端,其中当该晶舟移动进入该处理空间时,该垂直杆沿着该晶舟框架的该纵向方向相对移动。 |
