电浆处理室用气体分配构件之形成方法;METHOD OF MAKING A GAS DISTRIBUTION MEMBER FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

摘要

一种制造用于半导体电浆处理室之含矽的气体分配构件的方法，包含：将碳构件成形为含矽气体分配构件的内腔结构。该方法包含在所形成的碳构件上沉积含矽材料，使得含矽材料形成围绕着所形成碳构件的外壳。将含矽外壳加工成含矽的气体分配构件之结构，其中加工步骤形成了进气口及出气孔，曝露出在含矽的气体分配构件内部区域中的所形成碳构件的一部分。该方法从该含矽之气体分配构件的该内部区域移除该形成的碳构件，此步骤系利用与碳起反应的气体，分离碳原子，藉此自该含矽之气体分配构件的该内部区域移除碳原子，在该含矽之气体分配构件的该内部区域中留下一成形的内腔。