用于操控磊晶沉积腔室流量的注入及排放设计;INJECT AND EXHAUST DESIGN FOR EPI CHAMBER FLOW MANIPULATION

摘要

本文所述的实施例大体上系关于处理腔室中的流量控制。该处理腔室可包括一流量控制排放器与一宽注入器的组合。该流量控制排放器与该宽注入器可提供当该等气体进入与离开该腔室时的处理气体的受控流量，以及控制已经存在于该腔室中的该等气体。因此，整体的沉积分布可维持得更均匀。