一种调焦调平分系统及其调整方法

摘要

调焦调平分系统，依次具有：照明单元；投影狭缝；投影镜组，包括投影前组镜头和投影后组镜头；成像镜组，包括成像后组镜头和成像前组镜头；探测狭缝；光电探测器；以及，设置于投影前组镜头和投影后组镜头之间的投影反射镜和设置于成像后组镜头和成像前组镜头之间的成像反射镜；从照明单元出射的光经投影狭缝后入射至投影镜组，从投影前组镜头出射的光经投影反射镜反射后入射至投影后组镜头，然后由硅片表面反射后入射至成像镜组，从成像镜组后组镜头出射的光经成像反射镜反射后入射至成像前组镜头，再穿过探测狭缝成像于光电探测器上；投影反射镜和成像反射镜可被各自对应的电机驱动器驱动，从而实现调焦调平分系统最佳零平面的调整。

主权项

一种以调焦调平分系统作为反馈的光刻机FEM测校方法，包括以下步骤：步骤一，初始化整机各分系统；步骤二，上载FEM掩模，上载硅片；步骤三，进行FEM测校流程；步骤四，判断FEM测校流程得出的调焦调平分系统当前最佳零平面的Z值是否在其机器常数中设定的Z0范围内，若在，则进入步骤五，若不在则将当前最佳零平面的Z、Rx、Ry值与其机器常数中设定的Z0、Rx0、Ry0值对应相加，作为其更新后的机器常数设定值，重新执行步骤三；步骤五，以调焦调平分系统当前最佳零平面的Z、Rx、Ry值代替其机器常数中设定的Z0、Rx0、Ry0值，并结束本发明的FEM曝光方法。