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发明名称
円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法
摘要
The cylindrical sputtering target is a Cu-Ga alloy cylindrical sputtering target made of a Cu alloy containing 15 atom% to 35 atom% of Ga, in which the Cu alloy has a granular crystal structure.
申请公布号
JP5622012(B2)
申请公布日期
2014.11.12
申请号
JP20130240056
申请日期
2013.11.20
申请人
发明人
分类号
C23C14/34;B22D11/00;B22D13/02;C22C1/02;C22C9/00
主分类号
C23C14/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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