发明名称 円筒型スパッタリングターゲット及びその製造方法
摘要 The cylindrical sputtering target is a Cu-Ga alloy cylindrical sputtering target made of a Cu alloy containing 15 atom% to 35 atom% of Ga, in which the Cu alloy has a granular crystal structure.
申请公布号 JP5622012(B2) 申请公布日期 2014.11.12
申请号 JP20130240056 申请日期 2013.11.20
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;B22D11/00;B22D13/02;C22C1/02;C22C9/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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