发明名称 一种STT-MRAM存储单元
摘要 本发明公开了一种STT-MRAM存储单元,将STT-MRAM存储单元的晶体管设计为具有独立双栅的FinFET形式,Fin两侧的二个栅极分别与Fin的源、漏区构成一个MOS器件,二个MOS器件共享源、漏区,二个栅极互为背栅,可分别控制Fin开启或关闭导电沟道,本发明利用具有独立双栅的FinFET器件的栅控特性,在一个FinFET器件里面构成两个MOS结构,实现STT-MRAM存储单元所需要的较小读电流和较大的写电流,可有效提高STT-MRAM的读写稳定性,并使器件的尺寸在相同的驱动电流条件下得到了进一步缩小。
申请公布号 CN104134456A 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201410306563.3 申请日期 2014.06.30
申请人 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司 发明人 胡少坚;王全;陈寿面;任铮;郭奥
分类号 G11C11/16(2006.01)I;H01L43/00(2006.01)I 主分类号 G11C11/16(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;林彦之
主权项 一种STT‑MRAM存储单元,包括磁隧道结和选择晶体管,其特征在于,所述晶体管为鳍式场效晶体管,所述鳍式场效晶体管包括1个形成于衬底上的硅体鳍结构和相互独立的二个栅极,所述鳍的两端具有源、漏区,二个所述栅极分别位于所述源、漏区之间的所述鳍的两侧,二个所述栅极分别与所述鳍的所述源、漏区构成一个MOS器件,其中一个所述MOS器件的所述栅极连接所述STT‑MRAM存储单元的读字线端,另一个所述MOS器件的所述栅极连接所述STT‑MRAM存储单元的写字线端,所述鳍的漏区端连接所述磁隧道结的一端,所述鳍的源区端连接所述STT‑MRAM存储单元的地线,所述磁隧道结的另一端连接所述STT‑MRAM存储单元的位线;其中,二个所述MOS器件的所述栅极互为背栅,二个所述栅极可分别控制所述鳍开启或关闭导电沟道。
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