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发明名称 ウエハの検査のための１つまたは複数のパラメータの選択方法
摘要 Computer-implemented methods, computer-readable media, and systems for selecting one or more parameters for inspection of a wafer are provided.
申请公布号 JP5619776(B2) 申请公布日期 2014.11.05
申请号 JP20110549298 申请日期 2010.02.05
申请人 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 发明人 リー クリス;ガオ リシェン;ルオ タオ;ウー ケノン;トレリ トマソ;ヴァン リート マイケル ジェイ;ダフィー ブライアン
分类号 H01L21/66;G01N21/956 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
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