基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明涉及一种半导体基板制造装置，更具体地说，涉及一种进行液晶显示板工艺处理的方法。根据本发明一实施例的基板处理装置，其为向以不同大小设置于基板内的多个单元提供处理液的基板处理装置，其包括：支持单元，其用于支持基板；以及喷嘴组件，其具有向上述基板吐出处理液的多个喷嘴。其中，上述喷嘴组件包括：喷嘴单元，其含有上述多个喷嘴和向上述多个喷嘴提供上述处理液的喷嘴头；移动单元，可移动上述喷嘴单元或者上述支持单元，从而使上述喷嘴单元和上述支持单元的相对位置发生变更；以及控制器，其可控制上述喷嘴单元和上述移动单元。其中，上述控制器根据上述单元的大小，可控制向单位面积吐出的处理液的量互不相同。

主权项

一种基板处理装置，其为向以不同大小设置于基板内的多个单元提供处理液的基板处理装置，其特征在于，其包括：支持单元，其用于支持基板；以及喷嘴组件，其具有向所述基板吐出处理液的多个喷嘴，其中，所述喷嘴组件包括：喷嘴单元，其含有所述多个喷嘴和向所述多个喷嘴提供所述处理液的喷嘴头；移动单元，其移动所述喷嘴单元或者所述支持单元，从而使所述喷嘴单元和所述支持单元的相对位置发生变更；以及控制器，其控制所述喷嘴单元和所述移动单元，其中，所述控制器根据所述单元的大小，控制向单位面积吐出的处理液的量互不相同。