发明名称 光盘装置、光盘控制方法以及集成电路
摘要 本发明提供一种不必使用工厂内的特殊装置或高输出的激光光源,能够通过使形成在凹凸坑上的反射膜的反射率发生变化来追加写入追记标记的光盘装置、光盘控制方法以及集成电路。数据再生控制部(103)在再生凹凸坑时,对盘旋转速度切换部(108)设定第一旋转速度,并且对激光功率切换部(107)设定第一激光功率,标记记录控制部(104)在追加写入追记标记时,对盘旋转速度切换部(108)设定低于第一旋转速度并且也低于能够再生凹凸坑的最低旋转速度的第二旋转速度,并且响应发光时机对激光功率切换部(107)设定大于第一激光功率的第二激光功率。
申请公布号 CN102326199B 申请公布日期 2014.11.05
申请号 CN201080008678.4 申请日期 2010.12.17
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 中仙道刚;山冈胜;高木裕司;臼井诚
分类号 G11B7/0045(2006.01)I;G11B7/005(2006.01)I;G11B7/09(2006.01)I;G11B19/02(2006.01)I;G11B20/14(2006.01)I 主分类号 G11B7/0045(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汪惠民
主权项 一种光盘装置,对由凹凸坑记录主信息的光盘,通过使形成在所述凹凸坑上的反射膜的反射率发生变化来追加写入追记标记,其特征在于包括:拾光器;RF信号处理部,基于所述拾光器的输出取得RF信号;基准位置检测部,解调所述RF信号并检测基准位置信号;旋转速度控制部,将所述光盘的旋转速度切换为至少两种旋转速度;发光时机生成部,按照所述基准位置信号,在预先决定的位置生成从所述拾光器照射的激光的发光时机;激光功率控制部,在所述发光时机增加从所述拾光器照射的激光的激光功率;反射率变化量检测部,从所述RF信号中检测所述光盘的反射光的反射率变化量;凹凸坑再生控制部,当再生形成在所述光盘上的所述凹凸坑时,对所述旋转速度控制部设定第一旋转速度,对所述激光功率控制部设定第一激光功率;以及追记标记记录控制部,当对所述光盘追加写入所述追记标记时,对所述旋转速度控制部设定低于所述第一旋转速度并且也低于能够再生所述凹凸坑的最低旋转速度的第二旋转速度,并且响应所述发光时机,对所述激光功率控制部设定大于所述第一激光功率的第二激光功率。
地址 日本大阪府