发明名称 附有铜镀层的压延铜箔
摘要 本发明提供一种附有铜镀层的压延铜箔,即使形成铜镀层,附有铜镀层的压延铜箔在再结晶退火步骤后也具有优异的耐弯曲性。该附有铜镀层的压延铜箔具备最终冷轧步骤后、再结晶退火步骤前的压延铜箔;及形成于压延铜箔的至少一侧的面上的铜镀层;其中,压延铜箔和铜镀层的多个结晶面中,将由对{111}面、{002}面、{022}面按照2θ/θ法进行的X射线绕射所获得的绕射峰的强度值的分率各自设为PR{111}、PR{002}、PR{022}、PM{111}、PM{002}、PM{022}时,成为下述状态中的至少任一状态:满足PM{111}≧15.0,进一步满足PM{111}>(PR{111}+5)的状态、PM{002}<(PR{002}-10)或PM{002}>(PR{002}+10)的状态、PM{022}<(PR{022}-10)或PM{022}>(PR{022}+10)的状态。
申请公布号 TW201440915 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW103113689 申请日期 2014.04.15
申请人 SH铜业股份有限公司 发明人 室贺岳海;后藤千鹤
分类号 B21B3/00(2006.01);B32B15/01(2006.01);H05K1/09(2006.01) 主分类号 B21B3/00(2006.01)
代理机构 代理人 <name>洪尧顺</name>
主权项
地址 日本
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