极高功率雷射腔室光学改良技术

摘要

所揭露实质内容之一层面包括一种用于减少一射束反转器棱镜之雷射吸收的方法，该方法由下列至少一者组成：增加一第一入射点与一削角之间的一第一距离，其中该第一入射点在该棱镜的一第一反射面上，且该削角在该第一反射面与该棱镜的一第二反射面之间被形成，其中该削角具有一削角面；增加一第二入射点与该削角之间的一第二距离，其中该第二入射点在该棱镜之该第二反射面上；且增加该棱镜之该削角的该削角面的一反射性。一种用于决定一光学元件的一基本切割的方法也被揭露。一种包括至少一个基本切割光学元件的雷射也被揭露。

主权项

一种用于减少一射束反转器棱镜的雷射吸收之方法，由下述中的至少一者组成：增加一第一入射点与一削角之间的一第一距离，其中该第一入射点在该棱镜的一第一反射面上，且该削角在该第一反射面与该棱镜的一第二反射面之间被形成，其中该削角具有一抛光的削角面；增加一第二入射点与该削角之间的一第二距离，其中该第二入射点在该棱镜之该第二反射面上；增加该棱镜之该削角的该抛光的削角面的一反射性；以及将一输入雷射光束指向该第一入射点。