图案形成方法及光阻组成物

摘要

本发明的图案形成方法，其特征在于：将光阻组成物涂布在基板上，于加热处理后以高能量射线将光阻膜曝光，且在加热处理后使用利用有机溶剂之显影液使未曝光部溶解，得到曝光部不溶解之负型图案；该光阻组成物包含：具有含有与经取代或未经取代之羟甲基键结的氮原子之脲键、醯胺键、或胺甲酸酯键的化合物、具有羟基经酸不稳定基取代之重复单元的高分子化合物、酸产生剂、有机溶剂。;涉及本发明的光阻膜，有如下特征：在利用有机溶剂的显影之正负反转的图像形成中，未曝光部分之溶解性高、曝光部分之溶解性低、溶解对比高。

主权项

一种图案形成方法，其特征在于：将光阻组成物涂布在基板上，于加热处理后以高能量射线将光阻膜曝光，且在加热处理后使用利用有机溶剂之显影液使未曝光部溶解，得到曝光部不溶解之负型图案；该光阻组成物包含：具有含有与经取代或未经取代之羟甲基键结的氮原子之脲键、醯胺键、或胺甲酸酯键的化合物、具有羟基经酸不稳定基取代之重复单元的高分子化合物、酸产生剂、有机溶剂；该具有含有与经取代或未经取代之羟甲基键结的氮原子之脲键、醯胺键、或胺甲酸酯键的化合物系以下述通式(1)-1、(1)-2、或(1)-3表示；(式中，R1、R2、R5、R8为氢原子、碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基、或碳数1~10之直链状、分支状或环状的醯基，R3、R4为氢原子、碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~16的烯基、或-CH2-O-R11，R3与R4亦可各别键结而形成环，且该环亦可包含羰基、醚基、酯基、或-N(-CH2-O-R11)-；R6、R9为氢原子、碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数2~16的烯基，该等亦可具有羟基、烷氧基、醯氧基、氰基、卤原子、或硝基；R7、R10为氢原子、碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~16的烯基、或-CH2-O-R11，R6与R7、R9与R10亦可各别键结而形成环；R11为氢原子、或是相同或异种的碳数1~10之直链状、分支状或环状的烷基或醯基)。