发明名称 表面缺陷检测装置及其量测方法
摘要 一种表面缺陷量测方法,包括下列步骤。提供一平面光源。以平面光源投射出具有周期变化之一图案于一基底上,且平面光源被基底反射后形成一反射图案。相对于基底沿着至少一方向等间隔地移动图案,以产生相位移,并对应于图案之相位移分别产生多个影像。撷取此些影像,并计算此些影像中各座标点的相位变化。对各座标点的相位值进行相位展开,以得到一相位展开图。对相位展开图进行平整化,以得到基底表面的缺陷图案。
申请公布号 TWI458964 申请公布日期 2014.11.01
申请号 TW100146063 申请日期 2011.12.13
申请人 财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 发明人 张柏毅;卓嘉弘;顾逸霞
分类号 G01N21/88;H01L21/66 主分类号 G01N21/88
代理机构 代理人 祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;涂绮玲 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2
主权项 一种表面缺陷量测方法,包括:提供一平面光源,该平面光源由一平面显示器提供;以该平面光源投射出具有周期变化之一图案于一基底上,且该平面光源被该基底反射后形成一反射图案;控制该平面显示器之画素单元的明暗变化以产生该图案,使该图案相对于该基底沿着至少一方向等间隔地移动,以产生相位移,并对应于该图案之相位移分别产生复数个影像;撷取该些影像,并计算该些影像中各座标点的相位变化;对各该座标点的相位值进行相位展开,以得到一相位展开图;以及对该相位展开图进行平整化,以得到该基底表面的缺陷图案。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号