研磨方法及研磨装置;POLISHING METHOD AND APPARATUS

摘要

本发明提供一种研磨方法及研磨装置，可最大限度地利用在研磨工程间进行的基板传递工程的闲置时间，并进行研磨台上的研磨垫的清洗。本发明的研磨方法，包含：研磨工程，依照预设的研磨指南，以顶环301A将研磨对象基板按压至研磨台300A上的研磨垫305A，并研磨基板的被研磨面；垫洗净工程，将洗净液喷到研磨垫并移除研磨垫上的异物；以及基板传递工程，使研磨后的基板在基板传递位置从顶环301A脱离，将后续研磨对象基板安装到顶环，已安装后续研磨对象基板的顶环301A回到前述研磨台300A为止，其中在检测到研磨指南结束后，开始前述垫洗净工程，检测基板传递工程中的后续对象基板的位置，结束垫洗净工程。