| 摘要 |
本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括一相位调整器,该相位调整器用以在将一图案曝光于一基板上期间调整横穿该相位调整器之一光学元件之一光波的一相位。在一实施例中,该光学元件为该微影装置之一投影系统中的一热可控制光学元件。在使用中,藉由包括一离轴辐射光束之一照明模式来照明该图案。此光束经绕射成相对于一光轴而相反地且非对称地倾斜之第零级经绕射光束及第一级经绕射光束。识别该第一级经绕射光束横穿该光学元件之一区域。藉由关于该第零级经绕射光束之光学相位而计算该第一级经绕射光束之一所要光学相位来最佳化该图案之一影像的一影像特性。该相位调整器经控制以将该所要光学相位施加至该第一级经绕射光束。 |
