光阻组成物及光阻图型之形成方法;RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD

摘要

[课题]提供一种可维持良好之感度,且可形成具有低粗糙度的光阻图型光阻组成物。[解决手段]一种光阻组成物,其为含有具有通式(a0-1)所表示之结构单位(a0)的高分子化合物,与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B),与经由曝光而分解而失去酸扩散控制性之光崩坏性硷(D1)之组成物,其特征为,该(B)成份与该(D1)成份之混合比例,以(D1)/(B)所表示之莫耳比为0.5以上。式(a0-1)中,R为氢原子、碳数1~5之烷基或碳数1~5之卤化烷基。Ya01为单键或2价之键结基。X01为硫原子或氧原子。Ra01为可具有取代基之环式基、链状烷基或链状烯基。