发明名称 |
一种等离子体反应室及其静电夹盘 |
摘要 |
本发明提供一种等离子体反应室及其静电夹盘,将所述静电夹盘的加热层分为两个或两个以上的加热区,每个加热区包括独立控制的加热丝,通过将相邻加热区的加热丝设置在上下错置的不同平面内,增加了相邻加热丝间的距离,避免了相邻加热丝距离过近造成的局部区域温度过高,且会对相邻区域的温度造成影响,不能实现不同加热区的独立控制的问题,提高了静电夹盘的温度均匀性和静电夹盘多个加热区之间的独立控制温度的能力。 |
申请公布号 |
CN104112638A |
申请公布日期 |
2014.10.22 |
申请号 |
CN201310140631.9 |
申请日期 |
2013.04.22 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
左涛涛;吴狄;张亦涛;彭帆 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I;H01J37/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
一种等离子体反应室,包括一反应腔室,所述反应腔室下方设置一静电夹盘和支撑所述静电夹盘的基座,所述静电夹盘包括一绝缘层和设置于所述绝缘层下方的加热层,所述加热层包括第一加热区和第二加热区,所述第一加热区和第二加热区内分别设置相互独立的加热丝,其特征在于:所述第一加热区内的加热丝和第二加热区内的加热丝位于不同的平面内。 |
地址 |
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 |