发明名称 |
一种ESD保护及抗EMI集成滤波器的制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种ESD保护及抗EMI集成滤波器的制造方法。通过将齐纳二极管(D)、电阻(R)和电容(C)集成在一个器件中,能够为便携式电子系统的各种I/O端口提供ESD保护及抗EMI的单片器件解决方案,避免了采用传统分立器件带来的体积大、重量重、保护电压不稳定等问题。另外在工艺中采用离子注入法来制作次表面齐纳二极管,避免了采用传统半导体工艺制作的齐纳二极管热稳定性差、反向击穿电压精度不高以及输出噪声电压较大等问题。 |
申请公布号 |
CN104112708A |
申请公布日期 |
2014.10.22 |
申请号 |
CN201310133655.1 |
申请日期 |
2013.04.17 |
申请人 |
哈尔滨工大华生电子有限公司 |
发明人 |
孙芳魁;姜巍;袁晓飞;徐榕滨;张伟;许巍 |
分类号 |
H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/77(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种ESD保护及抗EMI集成滤波器的制造方法,其特征在于,包括:提供N型硅片;在所述N型硅片上通过离子注入技术制造次表面击穿齐纳二极管;在所述N型硅片上依次淀积SiO<sub>2</sub>层和Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>层,并通过光刻、腐蚀工艺制造出电容的介质层。在所述N型硅片上淀积多晶硅并进行三氯氧磷掺杂工艺;在所述N型硅片上通过光刻、腐蚀工艺制作出电阻和电容一极板;利用N+衬底作为电容另一极板。 |
地址 |
150028 黑龙江省哈尔滨市松北区科技创新城科技一街719号A401 |