发明名称 |
一种射频横向扩散金属氧化物半导体版图结构 |
摘要 |
本实用新型属于半导体器件技术领域,公开了一种射频横向扩散金属氧化物半导体版图结构,包括:栅指单元、漏指单元以及横向扩散金属氧化物半导体LDMOS;LDMOS的栅极端与栅指单元相连,漏极端与漏指单元相连;漏指单元包括:漏指基底以及用于管脚连接的漏端延伸结构;栅指单元包括:多个栅指基底以及其延伸结构,用于管脚连接的管脚连接件;管脚连接件呈梳齿形;呈梳齿形的管脚连接件顶端与栅指基底相连,且连接点位于呈梳齿形的管脚连接件的顶部中心位置;管脚连接件的梳齿状延伸结构与LDMOS的栅极端相连;漏端延伸结构与LDMOS的漏极端相连。本实用新型通过对称设置的栅指单元降低寄生电感电阻的影响,改善电压分布;同时优化信号相位同步率,提高芯片效率。 |
申请公布号 |
CN203895454U |
申请公布日期 |
2014.10.22 |
申请号 |
CN201420199261.6 |
申请日期 |
2014.04.21 |
申请人 |
上海联星电子有限公司 |
发明人 |
李赛;李科;丛密芳;杜寰 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京华沛德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘杰 |
主权项 |
一种射频横向扩散金属氧化物半导体版图结构,包括:栅指单元、漏指单元以及横向扩散金属氧化物半导体LDMOS;所述LDMOS的栅极端与所述栅指单元相连,漏极端与所述漏指单元相连;其特征在于,所述漏指单元包括:漏指基底以及用于管脚连接的漏端延伸结构;所述漏端延伸结构为漏指基底的梳齿状延伸结构;所述栅指单元包括:多个栅指基底及各栅指基底的延伸结构;所述栅指基底的延伸结构为用于管脚连接的管脚连接件;所述管脚连接件呈梳齿形;所述呈梳齿形的管脚连接件顶端与所述栅指基底相连,且连接点位于所述呈梳齿形的管脚连接件的顶部中心位置;所述管脚连接件的梳齿状延伸结构与所述LDMOS的栅极端相连;所述漏端延伸结构与所述LDMOS的漏极端相连。 |
地址 |
200120 上海市浦东新区金桥路939号宏南投资大厦1513室 |