测量方法、载台装置、及曝光装置

摘要

一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。

主权项

一种用于以照明光曝光基板的曝光装置，该装置包含:投影光学系统，用于将该照明光投影到排列在该投影光学系统下方的该基板上；框架结构，配置成支撑该投影光学系统；复数个光栅构件，各自具有反射型光栅部分并且各自藉由该框架结构所支撑，使得该光栅部分排列成实质上平行于垂直该投影光学系统的光轴的既定面；载台，具有配置成保持该基板的保持具并且在该光栅构件之下为可移动的，该保持具设在形成于该载台的较高表面中的凹部内；以及编码器系统，具有设在该载台处的复数个读头，每个读头配置成从该光栅部分下方发射光束至该光栅部分，以便获取该载台的位置资讯，其中该复数个读头的各者设在该载台处，以便排列在该载台的该较高表面的外侧。