发明名称 量化材料未知应力与残余应力之装置及其方法
摘要 一种量化材料未知应力与残余应力之装置,系用以量化一待测物之未知应力与残余应力,该装置包括:一光源、一偏光镜、一第一四分之一波片、一标准试片、一第二四分之一波片、一检光镜、一施载单元、一光谱仪及一检测模组;该光源系用以产生多波长或单波长之光;该偏光镜系设置于该光源前方,且其一面系面对该光源以使光产生偏振;该第一四分之一波片系设置于该偏光镜前方,且其一面系面对该光源以使光产生圆偏振;本发明亦揭露二量化材料未知应力与残余应力之方法。
申请公布号 TWI457550 申请公布日期 2014.10.21
申请号 TW101109034 申请日期 2012.03.16
申请人 国立清华大学 新竹市光复路2段101号 发明人 王伟中;黄吉宏;宋泊錡;陈维仁;赖冠廷
分类号 G01L1/24;G01L5/00 主分类号 G01L1/24
代理机构 代理人 叶大慧 台北市中正区新生南路1段50号6楼之3
主权项 一种量化材料未知应力与残余应力之装置,系用以量化一待测物之未知应力与残余应力,该待测物系为光学双折射性材料或暂态光学双折射性材料,该量化材料未知应力与残余应力之装置系包括:一光源,系用以产生多波长或单波长之光,一偏光镜,系设置于该光源前方,且其一面系面对该光源以使光产生偏振;一第一四分之一波片,系设置于该偏光镜前方,且其一面系面对该光源以使光产生圆偏振;一标准试片,其材质系与该待测物相同且无未知应力与残余应力,其系设置于该第一四分之一波片前方,且其一面系面对该第一四分之一波片之另一面;一第二四分之一波片,系设置于该标准试片前方,且其一面系面对该标准试片之另一面;一检光镜,系设置于该第二四分之一波片前方,且其一面系面对该第二四分之一波片之另一面;一施载单元,系用以施载该标准试片;一光谱仪,系设置于该检光镜前方,系用以记录从该检光镜穿透之光的光强,并得到该标准试片对应该光源之波长下之穿透率光谱;以及一检测模组,系与该光谱仪连结,其藉由该光谱仪得到之该标准试片对应该光源之波长下之穿透率光谱,得到该标准试片之应力量化公式,并以该标准试片之应力量化公式搭配该待测物之正规化穿透率,求得该待测物之应力分布;其中,该检测模组系利用持续施载该标准试片、记录从该检光镜穿透之光的光强,以得到该标准试片对应该光源之波长下之穿透率光谱、记录应力对应穿透率于该光源之波长下之变化关系、正规化该应力对应穿透率于该光源之波长下之变化关系、利用该应力对应正规化穿透率于该光源之波长下之变化关系,以正弦函数拟合方式得到正规化穿透率值于该光源波长下对应应力之关系、以线性函数拟合方式得到该正规化穿透率值对应应力与该光源之波长之关系以及利用该穿透率值对应应力与该光源之波长之关系以比例方式推得第一应力量化公式。
地址 新竹市光复路2段101号