发明名称 利用无电镀铜液之无电铜电镀制造方法
摘要 本发明系揭露一种利用无电镀铜液之无电铜电镀制造方法,该无电镀铜液包含有一铜盐、一错合剂、一还原剂、一pH值调整剂,以及一2,2'-联吡啶酸液;其中该无电镀铜液之PH值系实质上介于11.5至13.0。
申请公布号 TWI457461 申请公布日期 2014.10.21
申请号 TW096138247 申请日期 2007.10.12
申请人 三星电子股份有限公司 南韩 发明人 宋基熔;赵成宪
分类号 C23C18/40 主分类号 C23C18/40
代理机构 代理人 吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3
主权项 一种无电镀铜液(electroless copper plating solution),其包含有:一铜盐(copper salt);一错合剂(complexing agent);一还原剂(reductant),其中该还原剂系选自由甲醛(formaldehyde)、仲甲醛(paraformaldehyde)、乙醛酸(glyoxylic acid),以及其混合物所组成之群组;一pH值调整剂(pH adjustor);以及一2,2'-联吡啶(2,2-dipyridyl)酸液;其中该无电镀铜液之PH值系实质上介于11.5至13.0,而该铜盐之体积莫耳浓度约介于0.01mol/l至0.05mol/l,该错合剂之体积莫耳浓度约介于0.03mol/l至0.15mol/l,该还原剂之体积莫耳浓度约介于0.04mol/l至0.20mol/l,该pH值调整剂之体积莫耳浓度约介于0.1mol/l至0.2mol/l,且该2,2'-联吡啶酸液之体积莫耳浓度约介于0.1mol/l至0.5mmol/l。
地址 南韩