COMPOSITION DE POLISSAGE DE PASTILLE DE SILICIUM STABLE ET CONCENTRABLE ET PROCEDES APPARENTES

摘要

Il est fourni une composition de polissage stable et concentrable pour le polissage de pastilles de silicium, contenant : de l'eau ; un abrasif ; un cation selon la formule (I) ; de la pipérazine ou un dérivé de pipérazine selon la formule (II) ; et, éventuellement, un agent d'ajustement du pH ; dans laquelle la composition de polissage présente une vitesse de retrait du silicium d'au moins 300 nm/min. Il est également fourni des procédés de fabrication et d'utilisation de la composition de polissage mécano-chimique stable et concentrable.