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<p>Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Beschichtungsanordnung (100) bereitgestellt werden, die Folgendes aufweisen kann: eine Vakuumprozesskammer (102); eine Gasführungsanordnung (104) zum Einleiten mindestens eines Gases (104a) in die Vakuumprozesskammer (102); und eine Anode (106) innerhalb der Vakuumprozesskammer (102), wobei die Gasführungsanordnung (104) und die Anode (106) derart relativ zueinander angeordnet und eingerichtet sein können, dass mindestens ein Teil des Gases (104a) beim Einleiten in die Vakuumprozesskammer (102) die Anode (106) umströmt.</p> |
