用于自我定心的制程屏蔽之物理气相沉积目标;PVD TARGET FOR SELF-CENTERING PROCESS SHIELD

摘要

在一些实施例中，一种供具有制程屏蔽的基板处理腔室中使用的目标组件可包括：背板，具有第一侧及相对的第二侧，其中该第二侧包含具有第一直径的第一表面，藉由第一边缘约束该第一表面；目标材料，具有黏合至背板之第一表面的第一侧；其中第一边缘为背板与目标材料之间的一界面；及复数个槽缝，沿背板之外部周边安置以在使用期间相对于制程屏蔽对准目标组件，其中在背板之第一侧中形成复数个槽缝及该等复数个槽缝仅部分延伸至背板中。