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发明名称
制造具有分离特征、用于微机械加工和光微影的二元遮罩之绿色制程;A GREEN PROCESS FOR FABRICATION OF BINARY MASKS WITH ISOLATED FEATURES FOR MICROMACHINING AND PHOTOLITHOGRAPHY
摘要
兹揭示一种用于生产二元微加工遮罩的环境友善方法。可以提供包括水溶性聚合物材料的光学靶,该水溶性聚合物材料与紫外线辐射可透射的基板接触。可以使雷射聚焦于主遮罩上,以产生遮罩图像,该遮罩图像之后被缩小光件缩小,以提供缩小的图像。可以使该光学靶曝露于该缩小的图像,以从该主遮罩产生尺寸缩小的特征。曝露于紫外线辐射的该水溶性聚合物可从该光学靶剥蚀。后续可以使用金属蒸汽来金属化该光学靶,以涂覆剩余的聚合物材料和曝露的基板。可以使金属化的光学靶与含水流体接触,以去除金属化的聚合物材料而留下二元遮罩。
申请公布号
TW201439666
申请公布日期
2014.10.16
申请号
TW102148776
申请日期
2013.12.27
申请人
印度理工学院坎普尔分校
发明人
辛格 戈温特 达亚尔;苏扎马廉 阿南莎 雷玛克利斯那;扎娜卡拉扬 拉姆库玛
分类号
G03F1/00(2012.01)
主分类号
G03F1/00(2012.01)
代理机构
代理人
<name>蔡滨阳</name>
主权项
地址
印度
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