发明名称 形成金属氧化物薄膜用的涂布液、金属氧化物薄膜、场效电晶体及制造场效电晶体的方法;COATING LIQUID FOR FORMING METAL OXIDE FILM, METAL OXIDE FILM, FIELD-EFFECT TRANSISTOR, AND METHOD FOR PRODUCING FIELD-EFFECT TRANSISTOR
摘要 提供一种形成金属氧化物薄膜用的涂布液,其包含:一铟化合物;选自由一镁化合物、一钙化合物、一锶化合物以及一钡化合物所组成的群组的至少其中一种;选自由一包含氧化数的最大正值为IV的金属的化合物、一包含氧化数的最大正值为V的金属的化合物、以及一包含氧化数的最大正值为VI的金属的化合物所组成的群组的至少其中一种;以及一有机溶剂。
申请公布号 TW201439227 申请公布日期 2014.10.16
申请号 TW103111482 申请日期 2014.03.27
申请人 理光股份有限公司 发明人 中村有希;植田尙之;松本真二;高田美树子;曾根雄司;早乙女辽一;新江定宪;安部由希子
分类号 C09D1/00(2006.01);B05D5/12(2006.01);H01B3/10(2006.01);H01L21/316(2006.01);H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 C09D1/00(2006.01)
代理机构 代理人 <name>洪尧顺</name>
主权项
地址 日本