| 发明名称 | 掩模挡板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩模挡板及其制造方法，其中该掩模挡板的制造方法包括：步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。本发明的技术方案在不但实现了掩模板的共用化设计，而且由于在进行构图工艺时仅需要进行一次曝光工艺，因此可有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN104102094A | 申请公布日期 | 2014.10.15 |
| 申请号 | CN201410303046.0 | 申请日期 | 2014.06.27 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 高玉杰;朴相镇 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/00(2012.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;陈源 |
| 主权项 | 一种掩膜挡板的制造方法，其特征在于，包括：步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||