蒸发源组件和薄膜沉积装置和薄膜沉积方法

摘要

本发明提供一种蒸发源组件，用于向一基板上蒸镀薄膜，该蒸发源组件包括：本体，该本体包括包围一空腔的顶部构件、底部构件及侧壁，该底部构件设置有与该空腔连通的多个输入口；多个喷嘴，设置于该顶部构件上并与该空腔连通；多个蒸发器，每个蒸发器设置于该本体下方且对应一个输入口，每个该蒸发器包括开口部，该蒸发器通过该开口部与相应的输入口连通，该蒸发器用于容置并蒸发待蒸镀材料；多个连接管，用于分别连接该蒸发器的开口部与该本体的输入口，该连接管为上宽下窄的锥形管，用以加速蒸镀材料的蒸气在本体间的气氛平衡。本发明还提供一种薄膜沉积装置及薄膜沉积方法。

主权项

一种蒸发源组件，用于向一基板上蒸镀薄膜，该蒸发源组件包括：本体，该本体包括包围一空腔的顶部构件、底部构件及侧壁，该底部构件设置有与该空腔连通的多个输入口；多个喷嘴，设置于该顶部构件上并与该空腔连通；多个蒸发器，每个蒸发器设置于该本体下方且对应一个输入口，每个该蒸发器包括开口部，该蒸发器通过该开口部与相应的输入口连通，该蒸发器用于容置并蒸发待蒸镀材料；多个连接管，用于分别连接该蒸发器的开口部与该本体的输入口，该连接管为上宽下窄的锥形管，用以加速蒸镀材料的蒸气在本体间的气氛平衡。