发明名称 局部真空式器件封装设备
摘要 本实用新型公开了一种局部真空式器件封装设备,属于器件封装设备领域,其包括:第一密封单元,其为凹槽结构或者平面结构;第二密封单元,其为凹槽结构或者平面结构,第二密封单元与第一密封单元对接并形成一密闭的空腔;封装单元,其穿过第一密封单元或者第二密封单元而设置于空腔内;气口单元,其设置于第一密封单元或者第二密封单元上并连通空腔。本实用新型与现有技术相比,其自身体积小、对封装设备整体要求低且便于物料的传递,提高了设备的实用性和便利性,更加适合于小批量、间歇性的生产,以及实验研究和科研等方面的应用,尤其是在有机电致发光器件OLED领域的应用。
申请公布号 CN203883047U 申请公布日期 2014.10.15
申请号 CN201420301730.0 申请日期 2014.06.06
申请人 威格高纯气体设备科技(苏州工业园区)有限公司 发明人 李春风;戴梦德
分类号 H01L51/56(2006.01)I 主分类号 H01L51/56(2006.01)I
代理机构 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人 何蔚
主权项 局部真空式器件封装设备,其特征在于,包括:第一密封单元,其为凹槽结构;第二密封单元,其为凹槽结构,所述第二密封单元与所述第一密封单元对接,其上的凹槽对接形成一密闭的空腔;封装单元,其穿过所述第一密封单元或者所述第二密封单元而设置于所述空腔内;气口单元,其设置于所述第一密封单元或者所述第二密封单元上并连通所述空腔。
地址 215026 江苏省苏州市苏州工业园区杏林街78号新兴产业工业坊2号厂房