| 发明名称 | 具有用于清洁排气环的机械式清洁元件的CVD反应器 | ||
| 摘要 | 本实用新型首先涉及一种CVD反应器，具有可旋转驱动的基座和的排气机构(4)以及机械式的清洁元件(7)，在排气机构(4)的区域中借助清洁元件(7)通过机械作用可以至少部分地清除在CVD反应器内沉积过程期间沉积的覆层。为了至少局部清除排气机构内壁的覆层，在此建议，清洁元件(7)安置在排气机构(4)的环形通道(5)内并且可通过旋转驱动装置在环形通道(5)内运动，以便清洁环形通道(5)的至少一个内壁或外壁。此外，本实用新型还涉及一种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体(4)，其具有进气口和出气口，以及一种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体，其具有具备进气口(6)的上壁(27)，朝向上方的、安置在径向外侧的垂直壁(28)与上壁(27)相邻。 | ||
| 申请公布号 | CN203878207U | 申请公布日期 | 2014.10.15 |
| 申请号 | CN201320897426.2 | 申请日期 | 2013.12.06 |
| 申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | H·希尔瓦;P·莱嫩 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
| 主权项 | 一种CVD反应器，具有可旋转驱动的基座和围绕所述基座的排气机构(4)以及机械式的清洁元件(7)，在所述排气机构(4)的区域中借助所述清洁元件(7)通过机械作用可以至少部分地清除在所述CVD反应器内沉积过程期间所沉积的覆层，其特征在于，所述清洁元件(7)安置在所述排气机构(4)的环形通道(5)内并且可通过旋转驱动装置在所述环形通道(5)内运动，以便机械地清洁所述环形通道(5)的至少一个内壁或外壁。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||