发明名称 |
多边缘WS<sub>2</sub>纳米片/石墨烯复合纳米材料及制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种多边缘WS<sub>2</sub>纳米片/石墨烯复合纳米材料及其制备方法,其由少层数的多边缘WS<sub>2</sub>纳米片与石墨烯复合构成,WS<sub>2</sub>纳米片与石墨烯之间的物质的量之比为1∶1-1∶4。制备方法是首先将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,再加入离子液体,并充分搅拌,然后依次加入L-半胱氨酸和硫代钨酸铵,充分搅拌使其溶解,将上述混合分散体系转移到水热反应釜中,于240℃下水热反应24h后,自然冷却至室温,离心收集水热固体产物,用去离子水充分洗涤,干燥,最后热处理,制备得到多边缘WS<sub>2</sub>纳米片/石墨烯复合纳米复合材料。本发明的方法具有简单、方便、易于扩大工业化应用的优点。 |
申请公布号 |
CN104103818A |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
申请号 |
CN201410339843.4 |
申请日期 |
2014.07.17 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
陈涛;陈卫祥;马琳;孙虎;叶剑波;陈倩男 |
分类号 |
H01M4/36(2006.01)I;H01M4/62(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
H01M4/36(2006.01)I |
代理机构 |
杭州赛科专利代理事务所 33230 |
代理人 |
冯年群 |
主权项 |
一种多边缘WS<sub>2</sub>纳米片/石墨烯的复合纳米材料,其特征在于,该复合纳米材料是由少层数的多边缘WS<sub>2</sub>纳米片与石墨烯复合构成,多边缘WS<sub>2</sub>纳米片与石墨烯之间的物质的量之比为 1:1‑1:4。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市浙大路38号 |