真空抽气装置和刻蚀设备

摘要

本发明公开了一种真空抽气装置和刻蚀设备，涉及半导体制造领域，能够有效阻挡反弹回真空反应腔的颗粒。该真空抽气装置，用于刻蚀设备中真空反应腔的气体抽取，包括：真空抽气腔，过渡通道和分子泵，分子泵通过过渡通道与真空抽气腔连通，过渡通道的第一开口端连接于真空抽气腔，过渡通道的第二开口端通过阀门连接于分子泵，过渡通道的第一开口端的内侧边沿向内延伸并向第二开口端方向弯折形成弯折结构，弯折结构与过渡通道侧壁构成环绕第一开口端的沟槽；第二开口端处设置有阻吸件，阻吸件为覆盖第二开口端中间部分的板状结构，板状结构的中部向第一开口端方向凹陷，阻吸件的边沿与第二开口端的边沿间隔一定距离。

主权项

一种真空抽气装置，用于刻蚀设备中真空反应腔的气体抽取，包括：真空抽气腔，过渡通道和分子泵，所述分子泵通过所述过渡通道与所述真空抽气腔连通，所述过渡通道的第一开口端连接于所述真空抽气腔，所述过渡通道的第二开口端通过阀门连接于所述分子泵，其特征在于，所述过渡通道的第一开口端的内侧边沿向内延伸并向所述第二开口端方向弯折形成弯折结构，所述弯折结构与所述过渡通道侧壁构成环绕所述第一开口端的沟槽；所述第二开口端处设置有阻吸件，所述阻吸件为覆盖所述第二开口端中间部分的板状结构，所述板状结构的中部向所述第一开口端方向凹陷，所述阻吸件的边沿与所述第二开口端的边沿间隔一定距离。