发明名称 彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法
摘要 本发明公开了一种彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法,涉及显示技术领域。所述彩膜阵列基板包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜,还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。本发明调整了黑矩阵在彩膜阵列基板制程中的工艺顺序,通过在黑矩阵上形成平坦化层,隔绝了黑矩阵与第一电极层、第二电极层之间的距离,有效防止了黑矩阵对第一电极层和第二电极层之间电场的影响,解决了黑矩阵对平面电场产生串扰信号的问题,改善了显示效果。
申请公布号 CN104076550A 申请公布日期 2014.10.01
申请号 CN201410270639.1 申请日期 2014.06.17
申请人 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 发明人 靳福江;陈轶
分类号 G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 柴亮;张天舒
主权项 一种彩膜阵列基板,包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜,其特征在于,还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。
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