发明名称 |
彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种彩膜阵列基板、显示装置及彩膜阵列基板的制作方法,涉及显示技术领域。所述彩膜阵列基板包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜,还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。本发明调整了黑矩阵在彩膜阵列基板制程中的工艺顺序,通过在黑矩阵上形成平坦化层,隔绝了黑矩阵与第一电极层、第二电极层之间的距离,有效防止了黑矩阵对第一电极层和第二电极层之间电场的影响,解决了黑矩阵对平面电场产生串扰信号的问题,改善了显示效果。 |
申请公布号 |
CN104076550A |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
CN201410270639.1 |
申请日期 |
2014.06.17 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
靳福江;陈轶 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
柴亮;张天舒 |
主权项 |
一种彩膜阵列基板,包括衬底基板、形成在所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列、形成在所述薄膜晶体管阵列上的彩色滤光膜,其特征在于,还包括形成在所述彩色滤光膜上的黑矩阵、以及形成在所述黑矩阵上的平坦化层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |