发明名称 一种真空吸附台面
摘要 本实用新型公开一种真空吸附台面,真空吸附台面上的真空吸附孔在有大量进气时会自动关闭。从而避免了为了保证真空吸附效果而增加真空系统的负载;同时避免在吸附台面上和工件表面产生强烈气流对加工工艺的影响,尤其是对喷墨打印的影响。
申请公布号 CN203854326U 申请公布日期 2014.10.01
申请号 CN201420139686.8 申请日期 2014.03.26
申请人 晏石英 发明人 晏石英
分类号 B41J11/00(2006.01)I;B25H1/00(2006.01)I 主分类号 B41J11/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种真空吸附台面,包括可控制气体通过与否的进气单元,其特征在于:真空吸附台面上的全部或部分真空吸附孔是进气单元或与进气单元连通;进气单元包括单元进气孔、单元出气孔和控制阀;控制阀位于单元进气孔与单元出气孔之间,能够关闭或打开进气单元的气流通道。
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