发明名称 单电子电晶体及其制造方法;SINGLE ELECTRON TRANSISTOR AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
摘要 本发明关于一种单电子电晶体及其制造方法。该单电子电晶体包括:通道区域,其包括形成于基板上的连结体、及由键结至该连结体之金属离子所生长的金属奈米粒子;配置于该通道区域一端之源极区域;配置于该通道区域另一端而与该源极区域对立之汲极区域;及耦合该通道区域且用以控制通道区域中的电荷迁移之闸极。
申请公布号 TW201438246 申请公布日期 2014.10.01
申请号 TW103106496 申请日期 2014.02.26
申请人 SK新技术股份有限公司 发明人 金俊亨;李荣根;刘鸿;安成宰;金泰熙
分类号 H01L29/78(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 代理人 <name>王彦评</name><name>赖碧宏</name>
主权项
地址 南韩