发明名称 |
发光二极管及其制造方法 |
摘要 |
一种发光二极管,包括基板、形成在基板之上的第一未掺杂的GaN层。第一未掺杂的GaN层的与基板相反的表面具有多个离子植入区域。第一未掺杂的GaN层的具有离子植入区域的表面形成有多个第二未掺杂的GaN层,第二未掺杂的GaN层为岛状且部分覆盖所述离子植入区域。第二未掺杂的GaN层的表面以及离子植入区域的表面形成有一层布拉格反射层。在布拉格反射层的表面依次形成有N型GaN层、活性层以及P型GaN层。本发明还提供了一种发光二极管的制造方法。 |
申请公布号 |
CN104078538A |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
CN201310101539.1 |
申请日期 |
2013.03.27 |
申请人 |
展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
发明人 |
邱镜学;林雅雯;凃博闵;黄世晟 |
分类号 |
H01L33/10(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/10(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发光二极管,包括:基板;第一未掺杂的GaN层,形成在基板之上,所述第一未掺杂的GaN层的与基板相反的表面形成有多个离子植入区域;多个第二未掺杂的GaN层,形成在第一未掺杂的GaN层之上,所述第二未掺杂的GaN层为岛状且部分覆盖离子植入区域;布拉格反射层,形成在第二未掺杂的GaN层的表面以及离子植入区域的未被第二未掺杂的GaN层覆盖的表面;以及N型GaN层、活性层以及P型GaN层,依次生长在布拉格反射层的表面。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 |