发明名称 |
电解铜箔及其制造方法 |
摘要 |
使用一种电解铜箔,其特征在于,在铜之晶粒内部或铜之晶粒彼此间之晶界具有平均粒径0.5~100nm之夹杂物,前述夹杂物含有无机化合物及/或有机化合物,前述无机化合物含有选自由钨、钼、钛、碲所构成群组中之一种以上金属元素的氧化物,前述有机化合物含有选自由硫脲、伸乙基硫脲、四甲基硫脲、1,3-二甲基-2-硫脲所构成群组中之一种以上硫脲类有机化合物。 |
申请公布号 |
TW201437434 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW103101442 |
申请日期 |
2014.01.15 |
申请人 |
古河电气工业股份有限公司 |
发明人 |
绘面健;山崎悟志;佐佐木宏和;松田竹善;筱崎健作;座间悟;藤泽季实子 |
分类号 |
C25D1/04(2006.01);H01M4/66(2006.01);H01M4/139(2010.01) |
主分类号 |
C25D1/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>恽轶群</name><name>陈文郎</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |