发明名称 |
与金属层相关联之双重图案化介层窗光罩分配方法、电脑系统及可读取储存媒体 |
摘要 |
所述之双重图案化技术之介层窗光罩分离方法之实施例使得介层窗图案化能够对齐其底下或上方之金属层,藉以缩减重叠误差,进而增加介层窗之置放性。假如相邻之介层窗违反介层窗之间之空间或节距(或上述二者)的G0光罩分离规则,因为具有较高之置放失误风险,故给予末端介层窗之光罩分配较高之优先顺序,藉此确保末端介层窗有良好的置放性。此与金属相关之介层窗光罩分离方法可获得如较低之介层窗阻抗之较佳介层窗性能以及较高之介层窗良率。 |
申请公布号 |
TWI454840 |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
TW100122903 |
申请日期 |
2011.06.29 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
发明人 |
林本坚;高蔡胜;刘如淦;黄文俊 |
分类号 |
G03F1/70;G06F17/50 |
主分类号 |
G03F1/70 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种介层窗层之介层窗图案化光单分配的方法,其中该方法使用一双重图案化技术,且该方法包含:决定该介层窗层之一介层窗是否触及或连接至分配至一第一金属光罩之一底下金属结构或一上方金属结构;假如该介层窗触及或连接至分配至该第一金属光罩之该底下金属结构或该上方金属结构,将该介层窗分配至一第一介层窗光罩,其中该第一介层窗光罩对准该第一金属光罩;以及假如该介层窗并未触及或连接至分配至该第一金属光罩之该底下金属结构或该上方金属结构,将该介层窗分配至一第二介层窗光罩,其中制程中该第二介层窗光罩对齐一第二金属光罩,该第二金属光罩不同于该第一金属光罩。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |