| 发明名称 | 光学元件、光学薄膜形成装置及光学薄膜形成方法 | ||
| 摘要 | 在被成膜材(3)的曲面状表面(3a)上形成光学薄膜(14)时，对于作为处理室(2)内的空间的一部分的配置部(4)和靶材(5)之间的特定空间(8)，预先利用遮蔽部(9)来包围该特定空间(8)。若在该状态下利用下述溅射工序进行成膜，则在曲面状表面上形成有光学膜厚实质相同的光学薄膜，所述溅射工序中，在为真空状态且供给有活性气体以及惰性气体的处理室(2)内对靶材(5)施加电压。 | ||
| 申请公布号 | CN104066867A | 申请公布日期 | 2014.09.24 |
| 申请号 | CN201280065431.5 | 申请日期 | 2012.12.28 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 川岸秀一朗;山下照夫 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;G02B3/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;庞东成 |
| 主权项 | 一种光学元件，其中，该光学元件具备形成为曲面状的曲面状表面、和形成于所述曲面状表面上的光学薄膜，所述曲面状表面具有包含所述曲面状表面的中心的第1部位、和与所述第1部位分离的第2部位，所述第1部位上的光学薄膜的光学膜厚与所述第2部位上的光学薄膜的光学膜厚实质相同。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||