一种准静态镀膜系统

摘要

本实用新型涉及一种镀膜系统，尤其涉及一种准静态镀膜系统。它包括准静态镀膜腔室、设置在准静态镀膜腔室内的用于对基板表面进行沉积镀膜的镀膜组件；以及设置在准静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的传输组件；镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，往复扫描的距离是任何小于相邻靶材间距的距离。本实用新型系统有别于其他的例如基板不动的静态镀膜系统,通过靶材内部的磁棒位置的移动提高镀膜均匀度。

主权项

一种准静态镀膜系统，其特征在于包括准静态镀膜腔室、设置在所述准静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的镀膜组件；以及设置在所述准静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的传输组件；所述镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，所述往复扫描的距离是任何小于相邻靶材间距的距离。