一种光刻设备垂向动态曝光方法及装置

摘要

本发明提出一种光刻设备垂向动态曝光方法，用于将掩模版图形通过投影物镜系统曝光成像在工件台的硅片上，其特征在于：具体包括如下步骤：（1）对准工件台，找到最佳焦面，并使最佳焦面位于硅片的光刻胶顶部；（2）根据光刻胶厚度及曝光时间，计算工件台的运动速度，所述运动速度为光刻胶厚度除以曝光时间；（3）曝光时工件台按照运动速度垂向匀速上升，整个曝光过程中工件台移动的距离等于光刻胶涂层的厚度，曝光完成时使工件台的最佳焦面停留在光刻胶涂层的底部；（4）曝光结束后，工件台停止运动并开始后烘和显影过程。本发明还提出垂向动态曝光装置。本发明通过在曝光过程中，使工件台在垂向匀速移动，并且在移动过程中进行连续曝光，可以有效地增加厚胶工艺中反胶所形成的倒梯形图形的倾斜度。

主权项

一种光刻设备垂向动态曝光方法，用于将掩模版图形通过投影物镜系统曝光成像在工件台的硅片上，其特征在于：具体包括如下步骤：（1）对准工件台，找到最佳焦面，并使最佳焦面位于硅片的光刻胶顶部；（2）根据光刻胶厚度及曝光时间，计算工件台的运动速度，所述运动速度为光刻胶厚度除以曝光时间；（3）曝光时工件台按照运动速度垂向匀速上升，整个曝光过程中工件台移动的距离等于光刻胶涂层的厚度，曝光完成时使工件台的最佳焦面停留在光刻胶涂层的底部；（4）曝光结束后，工件台停止运动并开始后烘和显影过程。