光阻下层膜形成组成物

摘要

【课题】提供一种可形成除了埋入性优异、昇华物量少之外，耐蚀刻性优异、折射系数及衰退系数之数值良好的下层膜之下层膜形成组成物。;【解决手段】含有(A)具有规定的构造单元之聚合物、(B)具有丁基醚基之交联剂、与(C)溶剂之下层膜形成组成物。

主权项

一种光阻下层膜形成组成物，其系含有：(A)具有下述通式(1)所示构造单元、下述通式(2)所示构造单元、下述通式(3)所示构造单元、及下述通式(4)所示构造单元的聚合物，(B)具有丁基醚基之交联剂，与(C)溶剂，(其中，前述通式(1)中，R1表示氢原子、碳数1~6的亦可取代之烷基、羟基、碳数1~6的烷氧基、羧基、碳数1~6的烷氧基羰基、碳数1~6的烷氧基羰氧基、羟甲基、或碳数1~6的烷氧基羟甲基，R2及R3系各自表示氢原子、或碳数1~6的亦可取代之烷基)；(其中，前述通式(2)中，R4表示氢原子或甲基，R5表示碳数1~4的伸烷基)；(其中，前述通式(3)中，R6表示氢原子、碳数1~6的亦可取代之烷基、羟基、碳数1~6的烷氧基、羧基、碳数1~6的烷氧基羰基、碳数1~6的烷氧基羰氧基、羟甲基、或碳数1~6的烷氧基羟甲基，R7表示氢原子或碳数1~6的亦可取代之烷基，n表示1~3的整数)；(其中，前述通式(4)中，R8、R9及R10系各自独立地表示氢原子、碳数1~6的亦可取代之烷基)。