发明名称 微影装置、元件制造方法、清洁系统及清洁图案化元件的方法
摘要 本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括:一照明系统,该照明系统经组态以调节一辐射光束;及一支撑结构,该支撑结构经组态以支撑一图案化元件。该图案化元件经组态以将一图案赋予至该辐射光束。该装置包括一图案化元件清洁系统,该图案化元件清洁系统经组态以将一静电力提供至在该图案化元件上且藉由该辐射光束而带电之污染物粒子,以便自该图案化元件移除该等污染物粒子。
申请公布号 TWI453545 申请公布日期 2014.09.21
申请号 TW098111880 申请日期 2009.04.09
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 史卡巴罗兹 路奇;依法诺 法拉帝莫 维塔拉维屈;卡士李 康士坦汀 尼可拉威屈;莫斯 乔汉斯 哈博特 乔瑟菲那;史蒂芬斯 鲁卡斯 亨利克斯 琼斯;安特希菲罗夫 帕维 斯丹拉维齐;可瑞森 法狄米尔 米哈罗维兹;多洛辛 里欧尼得 亚历山卓维奇;凡 卡潘 马汀
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影装置,其包含:一照明系统,该照明系统经组态以调节一辐射光束;一支撑结构,该支撑结构经组态以支撑一图案化元件,该图案化元件经组态以将一图案赋予至该辐射光束;一投影系统,其经组态以将经由该图案化元件图案化的该辐射光束投影至一基板上;该装置经组态以使该辐射光束通过邻近于该图案化元件的气体,以产生一电浆;及一图案化元件清洁系统,该图案化元件清洁系统经组态以将一静电力(electrostatic force)提供至在该图案化元件上的污染物粒子(contaminant particles),该等污染物粒子由在该辐射光束产生该电浆之形成期间所释放的电子充电(electrically charged),以便自该图案化元件移除该等污染物粒子。
地址 荷兰