对临界尺寸(CD)扫描电镜的CD提取进行建模

摘要

本发明涉及对临界尺寸(CD)扫描电镜的CD提取进行建模。本发明的一个实施例涉及一种在光刻工艺模型校准期间对临界尺寸(CD)扫描电镜(CD-SEM)提取进行建模的方法。在操作期间，该方法接收通过使用CD-SEM提取处理而获得的测量CD值，其中CD-SEM提取处理通过沿着多个电子束扫描测量特征的多个CD值，来确定该特征的测量CD值。然后该方法确定仿真CD值，其中仿真CD值至少基于均匀布置在目标特征周围的一组CD提取切割线来确定。在后续光刻工艺模型校准期间，该方法至少基于测量CD值和仿真CD值二者来拟合对光刻工艺的一个方面进行建模的参数。

主权项

一种在光刻工艺模型校准期间用于对临界尺寸CD扫描电镜CD‑SEM提取进行建模的方法，所述方法包括：接收通过使用CD‑SEM提取处理获得的测量CD值，其中所述CD‑SEM提取处理通过根据多个电子束扫描测量特征的多个CD值来确定用于所述特征的测量CD值；确定仿真CD值，其中仿真CD值是至少基于一组相互平行的CD提取切割线确定的；以及在光刻工艺模型校准期间，至少基于所述测量CD值和所述仿真CD值来拟合对光刻工艺的一个方面进行建模的参数。