在杂讯环境中之现场温度测量;IN-SITU TEMPERATURE MEASUREMENT IN A NOISY ENVIRONMENT

摘要

本文揭示用于处理基板之方法及设备。该设备为双功能处理腔室,该双功能处理腔室可在基板上执行材料制程及热制程两者。该腔室具有环形辐射源,该环形辐射源安置于腔室之处理位置与传送位置之间。当将基板支撑件下降至低于该辐射源平面以承担基板之辐射加热时,升举销具有足够的长度以将基板维持在处理位置处。一或更多个升举销具有安置于升举销中之光管,以在该升举销接触基板表面时收集由基板发出或传输之辐射。