| 发明名称 |
类矽石气体分离膜及其形成方法 |
| 摘要 |
本发明藉由一种大气压高温等离子流喷枪的技术改质聚矽烷薄膜，以形成一层类矽石(silica-like)结构的聚矽氧烷之气体分离膜，藉此，本发明之类矽石气体分离膜具有无机/有机介面结构，可同时具有有机膜的气体通量，亦具有无机膜的气体选择性。 |
| 申请公布号 |
TWI452071 |
申请公布日期 |
2014.09.11 |
| 申请号 |
TW101143912 |
申请日期 |
2012.11.23 |
| 申请人 |
中原大学 桃园县中坜市中北路200号 |
发明人 |
陈荣财;傅佑璋;童国伦;黄书贤;洪维松;吕幸江;胡蒨杰;李魁然;赖君义 |
| 分类号 |
C08J5/18;B01J19/08;B01D53/22 |
主分类号 |
C08J5/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
吴家业 台北市大安区新生南路1段143之1号3楼 |
| 主权项 |
一种类矽石气体分离膜，该类矽石气体分离膜包含：一交联透气层；与一类矽石结构选择层，该类矽石结构选择层系衍生自该交联透气层。 |
| 地址 |
桃园县中坜市中北路200号 |
