光微影用组成物及方法

摘要

本发明系提供顶涂层组成物，该组成物系施加至光阻剂组成物上。该顶涂层组成物于浸润式微影制程中具有特定应用性。

主权项

一种适用于在光阻剂层上形成顶涂层之组成物，该组成物系包含：彼此互不相同之第一基质树脂、第二添加树脂以及第三添加树脂，其中，该第一基质树脂包含一个或多个氟化基团，且系以分别高于该第二添加树脂及第三添加树脂之重量比例之量存在于该组成物中，其中，该第二添加树脂具有比该第一基质树脂及该第三添加树脂之表面能更低的表面能，其中，该第三添加树脂系包含一个或多个强酸基，以及其中，该第二添加树脂与该第一基质树脂和该第三添加树脂为不可混溶。