发明名称 氧化铜用蚀刻液以及使用其的蚀刻方法
摘要 提供:使用作为热反应型抗蚀剂材料的铜的氧化物在激光下曝光的时候,能选择性的蚀刻曝光、未曝光部分的氧化铜用蚀刻液以及使用其进行蚀刻的方法。本发明的氧化铜用蚀刻液,其特征在于,选择性蚀刻以铜的氧化物作为主成分的氧化铜含有层中的氧化数不同的氧化铜,至少含有螯合剂或其盐。
申请公布号 CN102753651B 申请公布日期 2014.09.10
申请号 CN201180009575.4 申请日期 2011.01.14
申请人 旭化成电子材料株式会社 发明人 中川义清;中田卓人;三田村哲理
分类号 H01L21/302(2006.01)I 主分类号 H01L21/302(2006.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 31210 代理人 徐申民;李晓
主权项 一种蚀刻方法,其是使用至少含有螯合剂或其盐的氧化铜用蚀刻液的蚀刻方法,其特征在于,包括热分解工序,即热分解含有铜的氧化物的氧化铜含有层的规定区域的铜的氧化物,与蚀刻工序,即向所述氧化铜含有层供给所述氧化铜用蚀刻液,从所述氧化铜含有层中除去被热分解的规定区域的铜的氧化物,所述螯合剂含有选自:氨基酸、以及作为其他的螯合剂的草酸、乙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、1,3‑丙二胺四乙酸、柠檬酸、富马酸、己二酸、琥珀酸、苹果酸、酒石酸、浴铜灵磺酸,以及它们的盐所组成的群中的至少一种。
地址 日东京都千代田区神田神保町一丁目105番地