发明名称 |
液态金属钠连续喷射的方法及所用回路 |
摘要 |
本发明属于快堆冷却剂特性技术领域,公开了液态金属钠连续喷射的方法及所用回路,该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后,在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射;该回路包括钠回路、阻塞计测量旁路、喷射支路。该方法及回路能够在线监测钠中杂质含量,使液态金属钠连续喷射、不堵塞喷射装置。 |
申请公布号 |
CN104036839A |
申请公布日期 |
2014.09.10 |
申请号 |
CN201310069422.X |
申请日期 |
2013.03.05 |
申请人 |
中国原子能科学研究院 |
发明人 |
杜海鸥;王荣东;王景春;王国芝;刘晨;卢晓春;石文涛 |
分类号 |
G21F9/06(2006.01)I |
主分类号 |
G21F9/06(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
液态金属钠连续喷射的方法,该方法是将钠加热后使钠经过沉降、冷阱除杂后,在喷射支路中的钠喷射接收罐中实现连续喷射,其包括以下步骤:(1)除杂将钠加热到150℃~250℃后输送到沉降罐中初步沉降,将沉降后的钠输送到膨胀箱中,并通过电磁泵使钠在冷阱、膨胀箱中循环流动,钠通过冷阱时进一步将杂质除去;(2)测量通过阻塞计测量旁路对净化后的钠进行在线测量,当杂质含量小于50ppm,将钠输送至喷射支路;(3)钠的喷射小流量喷射时,将钠先注入到钠计量筒,再将其注入喷射支路;大流量喷射时,将膨胀箱中钠通过电磁泵驱动输送到喷射支路的钠喷射接收罐,实现钠的连续雾化喷射。 |
地址 |
102413 北京市房山区275信箱65分箱 |